如何為CVD設備選型
前記：化學氣相沉積（CVD）是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，理論上即：兩種或兩種以上的氣態原材料導入到一個反應室內，然后他們相互之間發生化學反應，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上。所以普通CVD實驗設備則由三套及以上的設備組合而成即：高溫爐（提供實驗溫度）+供氣系統（提供多種氣體混合）+真空系統（提供實驗環境）。化學氣相沉積（CVD）設備的靈活度很高，客戶可根據自己實驗要求選擇合適的產品來組合，或者直接選擇套裝（請點擊這里）。
建議：如果您是在分開購買CVD設備時最好跟科晶人員溝通是否需要一些必須的配件，以防分體購買CVD中的設備造成配件不全不能立即實驗的問題。
一．高溫爐選擇（CVD系統中一般是管式爐）：高溫爐為CVD實驗提供材料沉積所需要的溫度
1、如何選擇管式爐：
二、供氣系統選擇：供氣系統即混氣裝置，它可以實現2種或者2種以上的氣體或者蒸汽按照一定的比例來混合，然后通入高溫爐中
本公司根據流量計的不同分為2類:
1.氣體流量計：
浮子流量計：氣體通過普通的浮子流量計粗略的估計進氣量。如GSL-2F、GSL-3F
質量流量計：氣體通過D07質量流量計精確控制進氣量。如GSL-2Z、GSL-3Z、GSL-4Z等
2、氣液混合流量計：
用于液體高溫氣化后導入CVD系統的設備，有建議版和精確控制版本兩種可選
三、真空系統選擇：真空系統為CVD實驗提供實驗的真空環境，將管式爐中的空氣抽走，達到真空的環境?？蛻舾鶕约簩嶒炈枵婵斩却笮〖皩嶒炈枨鍧嵆潭葋磉x擇合適的真空裝置。
本公司根據真空泵的不同分為2類：
1、低真空系統GZK-101。采用4L/S的雙級真空泵，標配電阻規真空計
2、高真空系統GZK-103。采用進口分子泵，自帶真空計。GZK-103G。采用國產分子泵，自帶真空計
另，若經費有限，客戶也可以只購買單獨的真空泵、真空計和真空泵連接配件來實現抽真空的步驟
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皖公網安備 34012302000974號
