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氧化鋁坩堝(帶蓋)
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石英坩堝(200 mm L x 200 mm W x 100mm H)
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氧化鋁坩堝
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氧化鋁坩堝(帶蓋)
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氧化鋁坩堝(含蓋)
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氧化鋁坩堝(含蓋)
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石英坩堝(420 mm L x 80 mm W x 40mm H)
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石英坩堝(300 mm L x 60 mm W x 28mm H )
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石英坩堝(100 mm L x 60 mm W x 26mm H)
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石英坩堝(100 mm L x 17 mm W x 10 mm H )
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氧化鋁舟
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氧化鋁舟
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氧化鋁舟
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氧化鋁舟
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小型提拉法(CZ)單晶生長爐(可用于生長直徑<25mm晶體,最高溫度2100℃)
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往復機構 MD-300
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陶瓷加熱平臺 φ100mm
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臺式2L雙運動干粉混料機
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水冷設備
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桌面型真空金屬甩帶爐(7KW感應電源)
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1100℃立式雙溫區高壓高真空管式爐
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實驗型噴霧干燥機(最高溫度250℃,玻璃腔體)
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粉末旋轉RF磁控濺射包覆爐
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1500℃三溫區開啟式管式爐(配法蘭和80mm氧化鋁管)