| 產(chǎn)品特點 | 可與準分子激光器配合進行PLD制膜 腔體內(nèi)部可安裝多塊靶材，進行多靶激光蒸發(fā) 腔體內(nèi)部靶材可旋轉 可對基片加熱（最高溫度可達1200℃） |
| 加熱爐（對基片加熱 | 雙層殼體結構，并帶有風冷系統(tǒng)，使殼體表面溫度小于60℃ 加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金（表面涂有氧化鋯涂層） 最高工作溫度：1200℃ 最大功率：1.2KW
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| 腔體 | 基片加熱腔體為高純石英材料 靶材蒸發(fā)腔體為不銹鋼材料 靶材蒸發(fā)腔體內(nèi)可安裝3塊靶材，并且靶材可旋轉（轉速：0-30rmp） 兩個腔體通過卡箍式法蘭連接（可點擊圖片查看詳細資料）
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| 真空系統(tǒng)（選配） | 10-2Torr(采用機械泵) 10-5Torr(采用渦旋分子泵) 可在本公司購買各種真空泵
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| 窗口 | 采用藍寶石（Al2O3） 尺寸：Φ25*0.5mm 允許激光的入射角度為30°-90°
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| 壓力控制系統(tǒng) | 一套壓力控制系統(tǒng)安裝在儀器的腔體上，可保證腔體內(nèi)部的氣壓恒定 與混氣系統(tǒng)配合使用，可保證蒸發(fā)腔體中各種氣體的分壓恒定
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| 混氣系統(tǒng) | 配有2路質(zhì)量流量計混合系統(tǒng) 混氣罐尺寸：Φ80X120mm 最大氣壓：3×106Pa 精度：±1%FS 質(zhì)量流量計量程：1:1-199sccm 可按客戶要求訂制其他量程的質(zhì)量流量計 可選購3-5路混氣系統(tǒng)
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| 等離子射頻電源（可選購） | 可在設備上安裝300W等離子射頻電源，使腔體內(nèi)的氣體等離子化，達到等離子化激光蒸發(fā)反應鍍膜
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| 質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期，終生維護（不包括密封圈、石英腔體和加熱元件） |
| 儀器尺寸 | 1300mm*1260mm*820mm |
| 質(zhì)量認證 | 若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證
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