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1100℃原位可視化雙溫區HPCVD系統(25mm管徑,混合CVD/PVD)
關鍵字:
CVD爐 PVD爐
產品概述:
GSL-1100微型原位可視化CVD/PVD爐(雙溫區),又稱為HPCVD。配備有25mm內徑石英管并附帶觀察窗口。石英管內有兩個加熱板,用于盛放蒸發料與樣品。此設備可以放置在光學顯微鏡或拉曼光譜下,用于原位觀察二維薄膜生長,最高可達1100oC。
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電源

1000W 220V/AC 

特點

1.可原位實時觀察樣品

2.兼具CVD/PVD功能

3.采用雙陶瓷板樣品臺加熱

4.兩溫區獨立控溫


爐體結構

· 特制石英管:外徑 30 x 內徑 25 x 長370(mm), 一個直徑 12 mm 的扁平高透光率窗口焊接在管子上,用于原位觀察薄膜生長

· 真空密封法蘭:包括電極、熱電偶、帶 KF   25 真空端口的氣體入口和出口的饋通件

· 微加熱板:兩個 W17 x L 25 mm 的陶瓷涂層加熱板從兩端插入加工管中。左側加熱板可調。

· 最高加熱溫度:1100℃,最大升溫速率:5℃/S

· 法蘭支架高度可調

   



溫度控制

· 兩個具有 50 段可編程的溫度控制器,用于獨立控制兩個加熱板

· 內置PID自動調諧功能

· 具有熱電偶過熱保護與損壞報警功能

· ±1℃溫度精度

· 兩個K型熱電偶(每個區域一個)

   



可選配件

· 耐腐蝕數字真空計

· 雙級旋片真空泵

· 可選質量流量控制器(0-2L/min


尺寸

01.jpg

保修

· 一年保修,提供提升時間支持(爐管和O形圈等耗材不在保修范圍內)

筆記本電腦,軟件和WIFI控制(可選)


· 可配備電腦進行控制

· 基于Labview的自研溫度控制系統   (EQ-MTS01) 。使用戶能夠編輯,記錄,儲存溫度曲線等數據

   



認證

· CE認證

· UL,NRTL或CSA認證需額外收費


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