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  • 加熱型輥壓機(含收放卷)
  • 1700℃高溫箱式爐(雙儀表監測,125L,爐腔尺寸:500*500*500mm)
  • 1000℃微型管式爐 (帶20mm管和真空法蘭)
  • 1600℃一體式管式爐,帶真空法蘭和閥門,可選60或80mm氧化鋁管
  • 1100℃雙溫區管式爐(可選279mm石英管和真空法蘭,加熱區300*300mm)
  • 1100℃三溫區管式爐 (可選216mm或279mm石英管,加熱區300*300*300mm)
  • 1200℃小型分體式 箱式爐 (爐體與溫控臺分離, 4.2L,150*180*155mm)
  • 400℃真空/氣氛區熔爐
  • 實驗型卷對卷熔融擠出機(最高300℃,用于制備各種聚合物薄膜)
  • 坩堝
  • 2200℃高溫頂部籽晶溶液生長爐
  • 高溫高真空燒結爐(1600℃-2000℃)
  • 1700℃高溫箱式爐觸摸屏控制板(36L,爐腔尺寸:300*300*400mm)
  • 1600℃自動下裝載熱循環燒結爐(爐腔尺寸:Φ280*300mm)
  • 2200℃溫控型感應加熱爐
  • 1600-2400℃高溫高真空燒結爐 (真空腔室φ360×480mm,10^-5torr,最大樣品100×80mm)
  • ALD系統
  • 1500℃三溫區管式氫氣爐 (配82mm高溫合金管,氫氣檢測與處理系統)氣管式爐(爐管尺寸:Φ100*1200mm)
  • 雙溫區熱等靜壓爐
  • 電動切片機
  • 1200oCMist-CVD晶體生長爐(配50mm管式爐)
  • 迷你型旋轉涂布機
  • 防堵防爆法蘭(Φ60)
  • 1100℃小型氣氛控制RTP管式爐 (130mm石英腔室)

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