-
加熱型輥壓機(含收放卷)
-
1700℃高溫箱式爐(雙儀表監測,125L,爐腔尺寸:500*500*500mm)
-
1000℃微型管式爐 (帶20mm管和真空法蘭)
-
1600℃一體式管式爐,帶真空法蘭和閥門,可選60或80mm氧化鋁管
-
1100℃雙溫區管式爐(可選279mm石英管和真空法蘭,加熱區300*300mm)
-
1100℃三溫區管式爐 (可選216mm或279mm石英管,加熱區300*300*300mm)
-
1200℃小型分體式 箱式爐 (爐體與溫控臺分離, 4.2L,150*180*155mm)
-
400℃真空/氣氛區熔爐
-
實驗型卷對卷熔融擠出機(最高300℃,用于制備各種聚合物薄膜)
-
坩堝
-
2200℃高溫頂部籽晶溶液生長爐
-
高溫高真空燒結爐(1600℃-2000℃)
-
1700℃高溫箱式爐觸摸屏控制板(36L,爐腔尺寸:300*300*400mm)
-
1600℃自動下裝載熱循環燒結爐(爐腔尺寸:Φ280*300mm)
-
2200℃溫控型感應加熱爐
-
1600-2400℃高溫高真空燒結爐 (真空腔室φ360×480mm,10^-5torr,最大樣品100×80mm)
-
ALD系統
-
1500℃三溫區管式氫氣爐 (配82mm高溫合金管,氫氣檢測與處理系統)氣管式爐(爐管尺寸:Φ100*1200mm)
-
雙溫區熱等靜壓爐
-
電動切片機
-
1200oCMist-CVD晶體生長爐(配50mm管式爐)
-
迷你型旋轉涂布機
-
防堵防爆法蘭(Φ60)
-
1100℃小型氣氛控制RTP管式爐 (130mm石英腔室)